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論文・著書情報


タイトル
和文:スパッタリング法によるHfO2基強誘電体厚膜のシリコン基板上への室温製膜とその電気特性および圧電特性評価 
英文: 
著者
和文: 志村礼司郎, 三村和仙, 舘山明紀, 清水荘雄, 舟窪浩.  
英文: Reijiro Shimura, Takanori Mimura, Akinori Tateyama, Shimizu Takao, HIROSHI FUNAKUBO.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文: 
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巻, 号, ページ        
出版年月 2020年9月8日 
出版者
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会議名称
和文:第81回応用物理学会秋季学術講演会 
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開催地
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