Importance of Crystallinity Improvement in MoS2 film just after MoS2-Compound Sputtering even followed by Post Sulfurization for Chip-Size Fabrication

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Importance of Crystallinity Improvement in MoS2 film just after MoS2-Compound Sputtering even followed by Post Sulfurization for Chip-Size Fabrication

著者

和文:	今井慎也, 濱田拓也, 濱田昌也, 白倉孝典, 宗田伊理也, 角嶋邦之, Tetsuya Tatsumi, Shigetaka Tomiya, 筒井一生, 若林整.
英文:	Shinya Imai, Takuya Hamada, Masaya Hamada, Takanori Shirokura, Iriya Muneta, Kuniyuki Kakushima, Tetsuya Tatsumi, Shigetaka Tomiya, Kazuo Tsutsui, Hitoshi Wakabayashi.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Japanese Journal of Applied Physics (JJAP) （SSDM特集号）

巻, 号, ページ

Vol. 60 Page SBBH10

出版年月

2021年2月

出版者

和文:
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会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文:

DOI