[23a-P08-1] 高濃度ホウ素ドープシリコンターゲットを用いたp型微結晶シリコンの作製と評価

論文・著書情報

タイトル

和文:	[23a-P08-1] 高濃度ホウ素ドープシリコンターゲットを用いたp型微結晶シリコンの作製と評価
英文:	[23a-P08-1] Investigation of p-type Microcrystalline Silicon Sputtered Using Highly Boron Doped Silicon Sputtering Target, 宮島晋介

著者

和文:	白取優大, 宮島晋介.
英文:	Yuta Shiratori, Shinsuke Miyajima.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2021年9月21日

出版者

和文:
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会議名称

和文:	第82回応用物理学会秋季学術講演会
英文:	The 82nd JSAP Autumn Meeting 2021

開催地

和文:
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