Scalable ferroelectricity of 20-nm-thick (Al0.8Sc0.2)N thin films sandwiched between TiN electrodes

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Scalable ferroelectricity of 20-nm-thick (Al0.8Sc0.2)N thin films sandwiched between TiN electrodes

著者

和文:	大田怜佳, 安岡慎之介, 水谷涼一, 白石貴久, 岡本一輝, 角嶋邦之, Tomoyuki Koganezawa, 坂田修身, 舟窪浩.
英文:	Reika Ota, Shinnosuke Yasuoka, Ryoichi Mizutani, Takahisa Shiraishi, Kazuki Okamoto, Kuniyuki Kakushima, Tomoyuki Koganezawa, Osami Sakata, Hiroshi Funakubo.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	J. Appl. Phys.

巻, 号, ページ

vol. 134 pp. 214103-1-6

出版年月

2023年12月4日

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

和文:
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