Hydrogen-included Plasma-assisted Reactive Sputtering for Conductivity Control of Ultra-Wide Bandgap Amorphous Gallium Oxide

論文・著書情報

タイトル

和文:	Hydrogen-included Plasma-assisted Reactive Sputtering for Conductivity Control of Ultra-Wide Bandgap Amorphous Gallium Oxide
英文:	Hydrogen-included Plasma-assisted Reactive Sputtering for Conductivity Control of Ultra-Wide Bandgap Amorphous Gallium Oxide

著者

和文:	Kosuke Takenaka, Hibiki Komatsu, Taichi Sagano, Keisuke Ide, Susumu Toko, Takayoshi Katase, Toshio Kamiya, Yuichi Setsuhara.
英文:	Kosuke Takenaka, Hibiki Komatsu, Taichi Sagano, Keisuke Ide, Susumu Toko, Takayoshi Katase, Toshio Kamiya, Yuichi Setsuhara.

言語

English

掲載誌/書名

和文:	Jpn. J. Appl. Phys.
英文:	Jpn. J. Appl. Phys.

巻, 号, ページ

Vol. 63 pp. 04SP65

出版年月

2024年8月17日

出版者

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会議名称

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開催地

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