Comparison of Sulfonation Efficiency of Plasma Treatments between Dielectric Barrier Discharge and DC Discharge

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Comparison of Sulfonation Efficiency of Plasma Treatments between Dielectric Barrier Discharge and DC Discharge

著者

和文:	YAO Kaixun, 高橋克幸, 立花孝介, 兒玉学, LI Oi Lun, 竹内希.
英文:	YAO Kaixun, 高橋克幸, 立花孝介, 兒玉学, LI Oi Lun, 竹内希.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2025年1月23日

出版者

和文:
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会議名称

和文:	誘電・絶縁材料/放電・プラズマ・パルスパワー/高電圧合同研究会
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開催地

和文:	沖縄県
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