EUVリソグラフィシミュレーション高速化のための CNN学習用カーブリニアマスクパターン生成

論文・著書情報

タイトル

和文:	EUVリソグラフィシミュレーション高速化のための CNN学習用カーブリニアマスクパターン生成
英文:	Curvilinear Mask Pattern Generation for CNN Training to Accelerate EUV Lithography Simulation

著者

和文:	杉山萌, 田邊容由, 下田将之, 高橋篤司.
英文:	Moe Sugiyama, Hiroyoshi Tanabe, Masayuki Shimoda, Atsushi Takahashi.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	DAシンポジウム2025 論文集
英文:	Proc. DA Symposium 2025, IPSJ Symposium Series

巻, 号, ページ

pp. 106-112

出版年月

2025年8月

出版者

和文:	一般社団法人情報処理学会
英文:	Information Processing Society of Japan

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文:

ファイル

公式リンク