Improving Ruthenium Electrodeposition for Interconnect Applications through Substrate and Mass-Transport Control

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Improving Ruthenium Electrodeposition for Interconnect Applications through Substrate and Mass-Transport Control

著者

和文:	HU ZHITAO, 侯文鼎, 栗岡智行, 彦坂元, Chang Tso-Fu Mark, 町田克之, 伊藤浩之, 三宅美博, 曽根正人.
英文:	Zhitao Hu, Wending Hou, Tomoyuki Kurioka, Gen Hikosaka, Tso-Fu Mark Chang, Katsuyuki Machida, Hiroyuki Ito, Yoshihiro Miyake, Masato Sone.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	European Materials Research Society

巻, 号, ページ

出版年月

2026年9月14日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	European Materials Research Society

開催地

和文:
英文:	Warsaw