MEMS デバイス作製に向けた微小電極によるパターン密度と電解めっき膜厚分布の関係評価

論文・著書情報

タイトル

和文:	MEMS デバイス作製に向けた微小電極によるパターン密度と電解めっき膜厚分布の関係評価
英文:

著者

和文:	坂梨航太, 栗岡智行, 彦坂元, 町田克之, 飯田慎一, Chun-Yi Chen, Tso-Fu Mark Chang, 伊藤浩之, 三宅美博, 曽根正人.
英文:	坂梨航太, Tomoyuki Kurioka, Gen Hikosaka, Katsuyuki Machida, Shinichi Iida, Chun Yi Chen, Tso-Fu Mark Chang, Hiroyuki Ito, Yoshihiro Miyake, Masato Sone.

言語

Japanese

掲載誌/書名

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英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2026年7月

出版者

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会議名称

和文:	第17回集積化MEMSシンポジウム
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開催地

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