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中川茂樹 研究者情報
姓 |
中川 |
Nakagawa |
名 |
茂樹 |
Shigeki |
所属組織 |
東京工業大学
工学院
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職位 / 称号 |
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ORCID ID |
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教育担当 : 主担当 |
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研究担当 |
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専門分野 |
その他 (磁性機能デバイス・メモリー, 磁性材料・薄膜, 薄膜デバイス作製技術)
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研究者プロフィール |
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講義ノート |
TokyoTech Open Course Ware |
学位論文 |
垂直磁気記録用薄膜媒体の磁気異方性制御に関する研究,
本文,
工学博士,
東京工業大学,
1993/06/30,
Heガスを用いた磁界圧着形マグネトロンスパッタ法によるa-Si薄膜の作製,
Master of Engineering,
1985/--/--,
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関連URL |
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