国内会議発表 (査読なし・不明)

• 角嶋邦之, 小柳友常, 来山大祐, 幸田みゆき, 宋在烈, 佐藤創志, 川那子高暢, M. マイマイティ, 舘喜一, M.K. Bera, パールハットアヘメト, 野平博司, 筒井一生, 西山彰, 杉井信之, 名取研二, 服部健雄, 山田啓作, 岩井洋. LaCe シリケート膜を用いたEOT<0.7nm の直接接合 high-k/Si の実現とフラットバンド電圧制御, 応用物理学会分科会 シリコンテクノロジー, ，野平博司，筒井一生，西山彰，杉井信之，名取研二，服部健雄，山田啓作，岩井洋“LaCe シリケート膜を用いたEOT<0.7nm の直接接合 high-k/Si の実現とフラットバンド電圧制御” 応用物理学会分科会 シリコンテクノロジー No.127 pp.4-8（2010年7月22日 ）, No. 127, pp. 4-8, July 2010.

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