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ト部友二 研究業績一覧 (7件)
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論文
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Miyuki Kouda,
Kenji Ozawa,
Kuniyuki KAKUSHIMA,
Ahmet Parhat,
HIROSHI IWAI,
ト部友二,
安田哲二.
Preparation and Electrical Characterization of CeO2 Films for Gate Dielectrics Application: Comparative Study of Chemical Vapor Deposition and Atomic Layer Deposition Processes,
Japanese Journal of Applied Physics,
Vol. 50,
No. 10,
pp. 10PA06-1-4,
Oct. 2011.
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Miyuki Kouda,
Kenji Ozawa,
Kuniyuki KAKUSHIMA,
Ahmet Parhat,
HIROSHI IWAI,
ト部友二,
安田哲二.
Preparation and Electrical Characterization of CeO2 Films for Gate Dielectrics Application: Comparative Study of Chemical Vapor Deposition and Atomic Layer Deposition Processes,
Japanese Journal of Applied Physics,
Vol. 50,
No. 10,
pp. 10PA06-1-4,
Oct. 2011.
国内会議発表 (査読なし・不明)
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小澤健児,
幸田みゆき,
角嶋邦之,
パールハットアヘメト,
岩井洋,
ト部友二,
安田哲二.
La2O3 のALD成長のための原料選択:シクロペンタジエニル錯体とアミディネート錯体の比較,
ゲートスタック研究会-材料・プロセス・評価の物理-(第16回研究会),
2011.
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小澤健児,
幸田みゆき,
角嶋邦之,
パールハットアヘメト,
岩井洋,
ト部友二,
安田哲二.
La(iPrCp)3 を原料としたLa2O3のALD: Self-limiting 成長条件の明確化,
第71回応用物理学会学術講演会,
Sept. 2010.
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幸田みゆき,
小澤健児,
角嶋邦之,
パールハットアヘメト,
岩井洋,
ト部 友二,
安田 哲二.
CVD法によるCeOx絶縁膜の作製と特性評価,
第71回応用物理学会学術講演会,
Sept. 2010.
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小澤健児,
幸田みゆき,
角嶋邦之,
パールハットアヘメト,
岩井洋,
ト部友二,
安田哲二.
Self-limited growth of La oxides with ALD,
複合創造領域シンポジウム,
2010.
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幸田みゆき,
小澤健児,
角嶋邦之,
パールハットアヘメト,
岩井洋,
ト部友二,
安田哲二.
Electrical characterization of CVD deposited Ce oxides,
複合創造領域シンポジウム,
2010.
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