論文

• Akihiro Matsutani, Fumitaka Ishiwari, Yoshiaki Shoji, Takashi Kajitani, Takuya Uehara, Masaru Nakagawa, Takanori Fukushima. Chlorine -based inductively coupled plasma etching of GaAs wafer using tripodal paraffinic triptycene as an etching resist mask, Japanese Journal of Applied Physics, vol. 55, 06GL01, May 2016.  公式リンク  
  

国内会議発表 (査読なし・不明)

• 松谷晃宏, 石割文崇, 庄子良晃, 上原 卓也, 中川 勝, 福島孝典. Cl2-誘導結合型プラズマエッチングにおけるヤヌス型トリプチセンTripC12のエッチング特性の評価, 2014年第75回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2014.

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