論文

• Yoshiro Kumagai, Satoshi Fukuyama, Hiroki Tonegawa, Kizashi Mikami, Kodai Hirose, Kanta Tomizawa, Kensuke Ichikawa, Masahiro Watanabe. Negative differential resistance of CaF₂/Si double barrier resonant tunneling diodes fabricated using plasma etching mesa isolation process, Japanese Journal of Applied Physics, The Japan Society of Applied Physics, vol. 59, SIIE03-1, Apr. 2020.

国際会議発表 (査読有り)

• Yoshiro Kumagai, Satoshi Fukuyama, Hiroki Tonegawa, Kizashi Mikami, Kodai Hirose, Kanta Tomizawa, Keisuke Ichikawa, Masahiro Watanabe. Negative Differential Resistance in CaF₂/Si Double Barrier Resonant Tunneling Diodes via Plasma Etching Mesa Isolation process, 32nd International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC2019), The Japan Society of Applied Physics, Oct. 2019.

国内会議発表 (査読なし・不明)

• 市川研佑, 利根川啓希, 廣瀬皓大, 三上萌, 福山聡史, 熊谷佳郎, 渡辺正裕. 金属をエミッタとするシリコン／フッ化物多重障壁共鳴トンネルダイオードの理論解析, 第66回応用物理学会春季学術講演会, 応用物理学会, p. 11-191, Mar. 2019.  公式リンク  
  

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