論文

• S. Matsunuma, T. Inoue, T. Watanabe, T. Doi, Y. Mashiko, S. Gomi, K. Hirata, S. Nakagawa. Playback performance of perpendicular magnetic recording tape media for over-50-TB cartridge by facing targets sputtering method, J. Magn. Magn. Mater., Volume 324, No. 3, pp. 260-263, Dec. 2012.
• K. Hirata, S. Gomi, S. Nakagawa. Directional Alignment of FeCo Crystallites in Si/NiFe/Ru/FeCoB Multilayer with High Anisotropy Field Above 500 Oe, ICMAT2009 and IUMRS-ICA 2009, Am. J. Nanosci. Nanotechnol., American Scientific Publishers, Vol. 11, No. 3, pp. 2739-2742(4), Sept. 2012.
• 間宮 啓介, 久保田 雄紀, 中川 茂樹. 反応性イオンビームスパッタリングによるCoFe2O4(100)配向膜の作製, 平成23年度春季大会 粉体粉末冶金協会講演, 紛体および粉末冶金, Vol. 59, No. 3, pp. 145-148, May 2012.
• G. Saemma, S. Takahashi, S. Matsunuma, T. Inoue, S. Nakagawa. Si/NiFe seed layers for Ru intermediate layer in perpendicular magnetic, The 56th Annual Conference on Magnetism and Magnetic Materials, J. Appl. Phys., Vol. 111, No. 7, 07B710, Apr. 2012.
• 中川茂樹. 斜方入射スパッタ粒子を利用して作製した高異方性磁界を有するFeCoB膜,, 日本磁気学会誌（まぐね）, Vol. 7, No. 1, pp. 26-32, Feb. 2012.
• 田中 真, 緒方 祐史, 中川 茂樹. 高配向MgO(100)下地層を用いた極薄FePt結晶成長, 紛体および粉末冶金, Vol. 59, No. 3, pp. 139-144, 2012.

国際会議発表 (査読有り)

• SHIGEKI NAKAGAWA. Evaluation of anisotropic residual stress in FeCoB thin films with high magnetic anisotropy field, CCMR 2012, CCMR 2012 PROGRAM AND ABSTRACT, Collaborative Conference on Materials Research, pp. 127-128, July 2012.
• SHIGEKI NAKAGAWA. FeCoB films with large saturation magnetization and high magnetic anisotropy field to attain high ferromagnetic resonance frequency, ICM2012 Busan The 19th International Conference On Magnetism, The 19th International Conference On Magnetism, The Korean Physical Society, p. 84, July 2012.

国内会議発表 (査読なし・不明)

• 松下 光樹, 間宮 啓介, 中川 茂樹. Fe系酸化物スパッタ膜の配向制御と結晶性向上, 平成24年度春季大会, 紛体粉末冶金協会講演概要集 平成24年度春季大会, 粉末紛体冶金協会, p. 158, May 2012.

特許など

• 中川茂樹, 高橋　茂樹, 園部　義明. 磁気抵抗素子. 特許. 公開. 国立大学法人東京工業大学, 株式会社サムスン横浜研究所. 2012/12/20. 特願2012-278543. 2014/07/03. 特開2014-123629. 2014.
• 中川茂樹, 松沼　悟　, 井上　鉄太郎, 土井　嗣裕, 渡辺　利幸. 磁気記録テープ及びその製造方法. 特許. 公開. 国立大学法人東京工業大学, 日立マクセル株式会社. 2010/07/30. 特願2010-171503. 2012/02/16. 特開2012-033227. 2012.

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