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中川茂樹 2017年 研究業績一覧 (17件 / 542件)
論文
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Yue Wang,
Tianjun Li,
Jian Wang,
Takashi Harumoto,
Tingting Jia,
Hideo Kimura,
Katsuyuki Nakada,
Shigeki Nakagawa,
Yoshio Nakamura,
Ji Shi.
Epitaxial growth of BiFeO3 films on TiN under layers by sputtering deposition,
AIP Advances,
Vol. 7,
055815,
Jan. 2017.
公式リンク
国際会議発表 (査読有り)
国内会議発表 (査読なし・不明)
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岡芹 謙,
村岡憲司,
庄司雄哉,
中川茂樹,
西山伸彦,
荒井滋久,
水本哲弥.
薄膜磁石を用いた自己保持型光スイッチの動作実証,
電子情報通信学会IPDA研究会,
Nov. 2017.
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篠原 光貴,
スタットラー 嘉也,
高村 陽太,
中川 茂樹.
垂直磁化Co2FeSi膜を用いた 磁気トンネル接合多層膜の作製,
第41回 日本磁気学会学術講演会,
Sept. 2017.
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冨田 誠人,
石谷 優剛,
高村 陽太,
中川 茂樹.
応力誘起磁化反転型MTJ用の SmFe2薄膜の磁歪特性向上,
第41回 日本磁気学会学術講演会,
19pA-7,
Sept. 2017.
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岡芹 謙,
村岡憲司,
庄司雄哉,
水本哲弥,
中川茂樹,
西山伸彦,
荒井滋久.
薄膜磁石を用いた磁気光学スイッチの自己保持動作実証,
2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会,
Sept. 2017.
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薮下大嗣,
松下直輝,
高村陽太,
園部義明,
中川茂樹.
D022-Mn3Ge 薄膜の垂直 磁気異方性の膜厚依存性,
第41 回日本磁気学会学術講演会,
Sept. 2017.
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冨田誠人,
石谷優剛,
高村陽太,
中川茂樹.
低消費電力MTJ用の負の超磁歪を有するSmFe2薄膜の作製と評価,
IEICE 磁気記録・情報ストレージ研究会,
信学技報,
vol. 117,
no. 118,
pp. 13-18,
July 2017.
公式リンク
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薮下大嗣,
松下直輝,
高村陽太,
園部義明,
中川茂樹.
磁気トンネル接合に用いるCo2FeSi/Mn3Ge二層構造による垂直磁化膜,
IEICE 磁気記録・情報ストレージ研究会,
信学技報,
vol. 117,
no. 118,
pp. 7-12,
July 2017.
公式リンク
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篠原 光貴,
鈴木 隆寛,
高村 陽太,
中川 茂樹.
Co2FeSi/MgO界面での酸素導入による垂直磁気異方性の発現,
磁気記録・情報ストレージ研究会(MR),
信学技報,
vol. 116,
no. 125,
pp. 19-24,
July 2017.
公式リンク
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薮下大嗣,
松下直輝,
高村陽太,
園部義明,
中川茂樹.
磁気トンネル接合に用いるCo2FeSi/Mn3Ge 二層膜構造における垂直磁化結合,
平成29年度春季大会(第119回講演大会),
(一社)粉体粉末冶金協会,
3-27A,
June 2017.
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冨田誠人,
石谷優剛,
高村陽太,
中川茂樹.
逆磁歪効果を用いた低消費電力MTJ用のSmFe2薄膜の作製と評価,
平成29年度春季大会(第119回講演大会),
3-29A,
June 2017.
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篠原光貴,
高村陽太,
中川茂樹.
ハーフメタル・フルホイスラー合金Co2FeSiを用いた垂直磁化型MTJ構造の作製,
マルチメディアストレージ研究会,
映情学技報,
vol. 41,
no. 17,
pp. 35-40,
June 2017.
公式リンク
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スタットラー嘉也,
三瓶理人,
高村陽太,
中川茂樹.
ハーフメタル磁気トンネル接合素子用人工反強磁性結合多層膜の作製,
平成29年度春季大会(第119回講演大会),
3-30A,
June 2017.
公式リンク
特許など
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史蹟,
中川茂樹,
王 月,
鈴木 英治 ,
中田 勝之 .
積層構造体及び磁気デバイス.
特許.
公開.
国立大学法人東京工業大学, TDK株式会社.
2017/09/29.
特願2017-190457.
2019/04/25.
特開2019-067470.
2019.
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史蹟,
中川茂樹,
王 月,
鈴木 英治 ,
中田 勝之 ,
米村 祥吾 .
積層構造体、スピン変調素子及び磁気記録システム.
特許.
公開.
国立大学法人東京工業大学, TDK株式会社.
2017/09/29.
特願2017-191289.
2019/04/25.
特開2019-067901.
2019.
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史蹟,
中川茂樹,
王 月,
鈴木 英治,
中田 勝之 ,
米村 祥吾.
積層構造体、スピン変調素子及び磁気記録システム.
特許.
公開.
国立大学法人東京工業大学, TDK株式会社.
2017/09/29.
特願2017-191288.
2019/04/25.
特開2019-067900.
2019.
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