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鍵直樹 1998年 研究業績一覧 (7件 / 745件)
論文
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鍵直樹,
藤井修二,
湯浅和博,
藪本周邦,
田中克昌.
Siウェハ表面における有機ガスの吸着機構,
エアロゾル研究,
日本エアロゾル学会,
Vol. 13,
No. 2,
pp. 142-148,
June 1998.
国際会議発表 (査読なし・不明)
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Naoki Kagi,
Shuji Fujii,
Kazuhiro Yuasa,
Katsumasa Tanaka,
Norikuni Yabumoto.
Evaluation of Organic Contaminants on Si Wafer Surfaces in Controlled Environment,
44th Annual Technical Meeting of Institute of Environmental Sciences and Technology with the ICCCS 14th International Symposium on Contamination Control,
44th Annual Technical Meeting of Institute of Environmental Sciences and Technology with the ICCCS 14th International Symposium on Contamination Control,
No. 14,
pp. pp. 569-574,
1998.
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K.Yuasa,
S.Fujii,
N.Kagi,
Y.Pan,
K.Tsukuda.
Measurements of Gaseous and Particle Contaminants in Residences,
44th Annual Technical Meeting of Institute of Environmental Sciences and Technology with the ICCCS 14th International Symposium on Contamination Control,
I. Symp. on Contamination Control,
No. 14,
1998.
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Hajime Tamura,
Shuji Fujii,
Kazuhiro Yuasa,
Naoki Kagi.
Evaluation of VOC Emissions from Cleanroom Materials Using New Chamber Test Methods,
44th Annual Technical Meeting of Institute of Environmental Sciences and Technology with the ICCCS 14th International Symposium on Contamination Control,
I. Symp. on Contamination Control,
No. 14,
pp. pp. 385-390,
1998.
国内会議発表 (査読なし・不明)
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鍵直樹,
藤井修二,
湯浅和博,
田中克昌.
有機系ガスのウェハ表面吸着の特性 クリーンルーム中におけるSiウェハの表面汚染に関する研究 その1,
日本建築学会学術講演梗概集,
Vol. D-2,
pp. 717-718,
Sept. 1998.
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鍵直樹,
藤井修二,
湯浅和博,
田中克昌,
藪本周邦.
有機系ガス暴露装置を用いたウェハ表面汚染の評価,
空気清浄とコンタミネーションコントロール研究大会予稿集,
pp. 233-236,
1998.
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鍵直樹,
藤井修二,
湯浅和博,
藪本周邦,
田中克昌.
クリーンルーム中の水分によるSiウェハ表面の有機物質汚染の影響,
エアロゾル科学・技術研究討論会,
pp. 150-152,
1998.
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