論文

• Yongtao Liu, Rama K. Vasudevan, Kyle P. Kelley, Hiroshi Funakubo, Maxim Ziatdinov, Sergei V. Kalinin. Learning the right channel in multimodal imaging: automated experiment in Piezoresponse Force Microscopy, npj Computational Materials, Vol. 9, No. 34, Mar. 2023.
• Takanori Mimura, Yuki Tashiro, Takao Shimizu, Hiroshi Funakubo. Systematic Investigation of Ferroelectric Properties in x%YO1.5-(100-x%)Hf1-yZryO2 Films, ACS Appl. Electron. Mater., 5, 3, 1600-1605, Feb. 2023.
• Akinori Tateyama, Yuichiro Orino, Yoshiharu Ito, Takahisa Shiraishi, Takao Shimizu, Minoru Kurosawa, Hiroshi Funakubo. Simultaneous high frequency measurement of both direct and inverse transverse piezoelectric coefficients of thin films using longitudinal vibration, Sensors and Actuators A: Physical, Vol. 354, 114265, Feb. 2023.
• Akinori Tateyam, Yoshiharu Ito, Takahisa Shiraishi, Minoru Kurosawa, Hiroshi Funakubo. Effect of film thickness on output power of a piezoelectric vibration energy harvester using hydrothermally synthesized (K,Na)NbO3 film, Jpn. J. Appl. Phys., Vol. 62, 016502, Jan. 2023.

国内会議発表 (査読なし・不明)

• 内田寛, 山崎佑介, 横田幸惠, 島宏美, 舟窪浩. PZT 薄膜の化学溶液堆積における選択的結晶成長と低温結晶化, 第42回電子材料研究討論会, Nov. 2023.
• 前川 芳輝, 平井 浩司, 岡本 一輝, 清水 荘雄, 舟窪 浩. 格子整合によるY 添加HfO2強誘電体薄膜の配向制御, 第84回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2023.
• 平井 浩司, 岡本 一輝, 白石 貴久, 山岡 和希子, 鶴丸 理沙子, 井上 ゆか梨, 舟窪 浩. HfO2-CeO2膜における電気特性の膜厚及び組成依存性, 第84回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2023.
• 中畑 美紀, 岡本 一輝, 石濱 圭佑, 山田 智明, 舟窪 浩. (100)/(001)配向正方晶Pb(Zr,Ti)O3膜における電界下での結晶構造評価, 第84回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2023.
• Xueyou Yuan, Yuto Ota, Daichi Ichinose, Takao Shimizu, Kazuki Okamoto, Yoshitaka Ehara, Masahito Yoshino, Takanori Nagasaki, Hiroshi Funakubo, Tomoaki Yamada. Domain architecture engineering of tensile-strained (PbxSr1-x)TiO3 thin films, 第84回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2023.
• 石濱 圭佑, 岡本 一輝, 小寺 正徳, 森川 友秀, 清水 荘雄, 舟窪 浩. 強誘電体薄膜のドメイン構造制御に向けたSr(Zr,Ti)O3バッファ層の検討, 第84回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2023.
• 安岡 慎之介, 岡本 一輝, 清水 荘雄, 松井 尚子, 入澤 寿和, 恒川 孝二, 舟窪 浩. 種々の組成の(Al, Sc)N多層膜のスイッチング特性評価, 第84回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2023.
• 村下 太一, 髙橋 雄真, 窪田 るりか, 伊東 良晴, 藤井 康裕, 是枝 聡肇, 岡本 一輝, 舟窪 浩. 水熱合成法で作製した (Bi, K)TiO3基薄膜の熱処理効果, 第84回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2023.
• 平永良臣, 野口雄貴, 三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩, 長康雄. 局所C-Vマップの機械学習解析に基づくグレイン境界と強誘電ドメイン挙動の相関に関する統計的評価, 第70回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2023.
• 岡本一輝, 中畑美紀, 石濱圭佑, 山田智明, 舟窪浩. 正方晶Pb(Zr,Ti)O3 強誘電体膜における内因的・外因的圧電応答のその場観察, 日本セラミックス協会2023年年会, Mar. 2023.
• 前川芳輝, 平井浩司, 安岡慎之介, 岡本一輝, 清水荘雄, 舟窪浩. 様々な基板上におけるY:HfO2エピタキシャル膜の合成と評価, 第70回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2023.
• 茶谷那知, 平井浩司, 安岡慎之介, 岡本一輝, 山岡和希子, 井上ゆか梨, 舟窪浩. スパッタリング法によるHfO2-CeO2強誘電体厚膜の非加熱合成, 第70回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2023.
• 安岡慎之介, 大田怜佳, 岡本一輝, 清水荘雄, 舟窪浩. NbN電極上に作製したエピタキシャル(Al, Sc)N膜の電気特性評価, 第70回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2023.
• 村下太一, 胡雨弦, 高橋雄真, 大田怜佳, 岡本一輝, 舟窪浩. 水熱合成法で作製された(Bi,K)TiO3-CaTiO3固溶体薄膜の強誘電特性, 第70回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2023.
• 中畑美紀, 岡本一輝, 石濱圭佑, 山田智明, 舟窪浩. 電界下Ｘ線回折による正方晶Pb(Zr,Ti)O3膜における圧電応答の膜厚依存性の評価, 第70回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2023.
• 舟窪浩, 胡雨弦, 岡本一輝, 窪田るりか, 白石貴久. 水熱法で低温作製したPbTiO3エピタキシャル膜のドメイン構造の特徴, 日本セラミックス協会2023年年会, Mar. 2023.
• 舟窪浩, 胡雨弦, 岡本一輝, 窪田るりか, 白石貴久. 水熱法で低温作製したPbTiO3エピタキシャル膜のドメイン構造の特徴, 日本セラミックス協会2023年年会, Mar. 2023.
• 山崎佑介, 横田幸恵, 島宏美, 中村美子, 舟窪浩, 内田寛. ガラス基板上に作製された一軸配向性PZT薄膜の分極および圧電特性の改善, 第70回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2023.
• 茶谷那知, 平井浩司, 安岡慎之介, 岡本一輝, 舟窪浩. フレキシブルデバイスに向けたHfO2基強誘電体厚膜の室温合成と圧電性の評価, 第61回セラミックス基礎科学討論会, Jan. 2023.
• 前川芳輝, 平井浩司, 安岡慎之介, 岡本一輝, 清水荘雄, 舟窪浩. 種々の基板上におけるHfO2基エピタキシャル膜の合成と評価, 第61回セラミックス基礎科学討論会, Jan. 2023.
• 高橋雄真, 岡本一輝, HUANG Yu, 窪田るりか, 藤井康裕, 是枝聡肇, 舟窪浩. 水熱合成法によって作製した (Bi, K)TiO3基エピタキシャル膜のラマン分光測定, 第61回セラミックス基礎科学討論会, Jan. 2023.
• 村下太一, 胡雨弦, 高橋雄真, 大田怜佳, 岡本一輝, 舟窪浩. 水熱合成法を用いた (Bi, K)TiO3基固溶体の薄膜作製とその強誘電性, 第61回セラミックス基礎科学討論会, Jan. 2023.
• 中畑美紀, 岡本一輝, 胡雨弦, 安岡慎之介, 石濱圭佑, 舟窪浩. 正方晶Pb(Zr,Ti)O3薄膜における圧電特性の膜厚依存性, 第61回セラミックス基礎科学討論会, Jan. 2023.
• 松浦佳祐, 鈴木雅視, 垣尾省司, 小寺正徳, 舟窪浩. SRO/Pt/Si基板上のTa2O5圧電薄膜の成膜と評価, 圧電材料・デバイスシンポジウム2023, Jan. 2023.
• 胡雨弦, 岡本一輝, 舟窪浩. 水熱合成法によるPbTiO3エピタキシャル膜の作製と評価, 第61回セラミックス基礎科学討論会, Jan. 2023.

特許など

• 舟窪浩, 黒澤実, 伊東　良晴, 白石貴久, 若林　剛. ビスマス原子、カリウム原子、又は鉛原子をＡサイトに含む強誘電体ペロブスカイト材料の製造方法. 特許. 公開. 国立大学法人東京工業大学, 株式会社コイケ. 2021/07/09. 特願2021-114144. 2023/01/20. 特開2023-010186. 2023.
• 舟窪浩, 清水荘雄, 安岡慎之介, 上原　雅人, 山田　浩志　, 秋山　守人. 強誘電性薄膜、それを用いた電子素子および強誘電性薄膜の製造方法. 特許. 登録. 国立大学法人東京工業大学, 国立研究開発法人産業技術総合研究所. 2020/12/25. 特願2021-567693. 特許第7260863号. 2023/04/11 2023.

[ BibTeX 形式で保存 ]    [ 論文・著書をCSV形式で保存 ]    [ 特許をCSV形式で保存 ]