国内会議発表 (査読なし・不明)

• 中山 創, 吉川 浩太, Lee Koomok, 安井 学, 金子 智, 黒内 正仁, 重松 圭, 東 正樹. 電子線描画HSQをマスクに用いたBiFe_0.9Co_0.1O₃ナノドットの作製, 第71回応用物理学会春季学術講演会, 2024.

特許など

• 東正樹, 重松圭, 吉川　浩太, 中山創, 金子　智　, 安井　学, 黒内　正仁. 複合酸化物パターンの形成方法. 特許. 公開. 国立大学法人東京科学大学, 地方独立行政法人神奈川県立産業技術総合研究所（KISTEC）, 住友化学株式会社. 2025/03/03. PCT/JP2025/007415. 2025/09/11. WO 2025/187606. 2025.
• 東正樹, 重松圭, 吉川　浩太, 中山創, 金子　智, 安井　学, 黒内　正仁. 複合酸化物パターンの形成方法. 特許. 公開. 国立大学法人東京科学大学, 地方独立行政法人神奈川県立産業技術総合研究所（KISTEC）, 住友化学株式会社. 2024/03/04. 特願2024-032250. 2025/09/17. 特開2025-134377. 2025.

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