論文

• Kazuaki Suzuki, T. Fujiwara, S. Kojima, N. Hirayanagi, T. Yahiro, J. Udagawa, S. Shimizu, H. Yamamoto, M. Suzuki, H. Takekoshi, S. Fukui, M. Hamashima, J. Ikeda, T. Okino, H. Shimizu, S. Takahashi, A. Yamada, T. Umemoto, S. Katagiri, Y. Ohkubo, T. Shimoda, K. Hirose, T. Tanida, Y. Watanabe, T. Kaminaga, Y. Kohama, F. Mori, S. Takemoto, T. Yoshioka, H. Hirose, K. Morita, K. Hada, S. Kawata, T. Sato, Y. Sato, M. Tokunaga, K. Okamoto, Y. Kakizaki, T. Miura. First dynamic exposure results from an electron projection lithography tool, J. Vac. Sci. Technol. B, American Vacuum Society, Vol. 21, No. 6, pp. 2686-2690, Dec. 2003.

国際会議発表 (査読なし・不明)

• T. Okino, Kazuaki Suzuki, K. Okamoto, S. Kawata, K. Uchikawa, S. Suzuki, S. Shimizu, T. Fujiwara, A. Yamada, K. Kamijo. Investigation of proximy effect correction in electron projection lithography (EPL), SPIE Microlithography, Proceeding of SPIE, Vol. 3997, pp. 235-244, 2000.

[ BibTeX 形式で保存 ]    [ 論文・著書をCSV形式で保存 ]    [ 特許をCSV形式で保存 ]