国内会議発表 (査読有り)

• 井手啓介, 笠井悠莉華, 片瀬貴義, 平松秀典, 細野秀雄, 神谷利夫. 超ワイドギャップアモルファス酸化物半導体を用いたショットキーバリアダイオードの逆バイアス特性, 2021年第68回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2021.
• 加藤昭宏, 笠井悠莉華, 井手啓介, 片瀬貴義, 平松秀典, 細野秀雄, 神谷利夫. 超ワイドギャップa-Ga-O薄膜トランジスタへの水素プラズマ処理効果, 薄膜材料デバイス研究会 第17回研究会「薄膜デバイスの原点」, Nov. 2020.
• 笠井悠莉華, 井手啓介, 片瀬貴義, 平松秀典, 細野秀雄, 神谷利夫. 超ワイドバンドギャップアモルファス酸化物半導体a-Ga-Oを用いたショットキーダイオードの作製, 薄膜材料デバイス研究会 第15回研究集会, Nov. 2018.

国際会議発表 (査読なし・不明)

• Keisuke Ide, Yurika Kasai, Takayoshi Katase, Hidenori Hiramatsu, Hideo Hosono, Toshio Kamiya. Hydrogen doping in ultra-widegap amorphous oxide semiconductor, amorphous Ga-O, Materials Research Meeting 2019, Dec. 2019.
• Keisuke Ide, Yurika Kasai, Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Atsushi Hiraiwa, Hiroshi Kawarada, Takayoshi Katase, Hidenori Hiramatsu, Hideo Hosono, Toshio Kamiya. Effect of hydrogen plasma treatment for ultra-wide bandgap amorphous oxide semiconductor, amorphous Ga-O, The 4th International Symposium on Creation of Life Innovation Materials for Interdisciplinary and International Researcher Development (iLIM-4), Oct. 2019.
• Yurika Kasai, Keisuke Ide, Takayoshi Katase, Hidenori Hiramatsu, Hideo Hosono, Toshio Kamiya. Hydrogen doping and carrier transport properties of amorphous Ga-O, The 11th International Conference on the Science and Technology for Advanced Ceramics (STAC-11), July 2019.

国内会議発表 (査読なし・不明)

• 加藤昭宏, 笠井悠莉華, 井手啓介, 片瀬貴義, 平松 秀典, 細野 秀雄, 神谷 利夫. 水素ドープアモルファス酸化ガリウムを用いた薄膜トランジスタ, 第67回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2020.
• 笠井悠莉華, 井手啓介, 片瀬貴義, 平松秀典, 細野秀雄, 神谷利夫. アモルファス酸化ガリウム薄膜への電子ドーピングとショットキーダイオード, 日本セラミックス協会 第39回電子材料研究討論会, Nov. 2019.
• 笠井悠莉華, 井手啓介, 片瀬貴義, 平松秀典, 細野秀雄, 神谷利夫. アモルファス酸化ガリウムを用いたショットキーバリアダイオード特性と光応答, 薄膜材料デバイス研究会 第16回研究集会「新時代に向けた薄膜材料のデバイス技術」, Nov. 2019.
• 笠井悠莉華, 井手啓介, 片瀬貴義, 平松 秀典, 細野 秀雄, 神谷 利夫. アモルファス酸化ガリウムへの水素ドープ効果とキャリア輸送特性, 第66回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2019.

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