論文

• Mina Sato, Mie Tohnishi, Akihiro Matsutani. Microfabrication of Si by KOH Etchant Using Etching Masks Amorphized by Ion Beam Extracted From Electron Cyclotron Plasma, Sensors and Materials, Vol. 36, No. 4, pp. 1319-1328, Apr. 2024.

国内会議発表 (査読なし・不明)

• 遠西美重, 松下祥子, 松谷晃宏. Deep-RIEで作製したブラックGeの微細構造側壁のスキャロップ深さと反射率との関係, 第71回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2024.
• 松谷晃宏, 遠西美重, 吉田 桜子. OsコーティングによるSU-8膜の梁構造の機械的強度の向上, 2024年第71回応用物理学会春季学術講演会, 23p-P05-36, Mar. 2024.
• 佐藤美那, 遠西美重, 松谷晃宏. イオンビーム照射によりアモルファス化したSi表面のXRR測定, 第71回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2024.
• 陳科廷, 遠西美重, 松谷晃宏, 松下祥子. 二枚櫛形電極を重ねたGe増感型熱利用電池構造のシミュレーションと作製, 2024年第71回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2024.

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