論文

• Yoshiro Kumagai, Satoshi Fukuyama, Hiroki Tonegawa, Kizashi Mikami, Kodai Hirose, Kanta Tomizawa, Kensuke Ichikawa, Masahiro Watanabe. Negative differential resistance of CaF₂/Si double barrier resonant tunneling diodes fabricated using plasma etching mesa isolation process, Japanese Journal of Applied Physics, The Japan Society of Applied Physics, vol. 59, SIIE03-1, Apr. 2020.

国際会議発表 (査読有り)

• Yoshiro Kumagai, Satoshi Fukuyama, Hiroki Tonegawa, Kizashi Mikami, Kodai Hirose, Kanta Tomizawa, Keisuke Ichikawa, Masahiro Watanabe. Negative Differential Resistance in CaF₂/Si Double Barrier Resonant Tunneling Diodes via Plasma Etching Mesa Isolation process, 32nd International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC2019), The Japan Society of Applied Physics, Oct. 2019.
• Hiroki Tonegawa, Yoshiro Kumagai, Satoshi Fukuyama, Koudai Hirose, MASAHIRO WATANABE. Room Temperature High Peak-to-valley Current Ratio of CaF2/Si Triple-barrier Resonant-tunneling Diode Grown on Si, The 2018 International Conference on Solid State Devices and Materials, Sept. 2018.
• Kono S., Tani M., Mukai T., Fukuyama H., Taleb R., Sakashita M.. Seismic behavior of Reinforced Concrete Walls for a performance based design, Second European Conference on Earthquake Engineering and Seismology, The proceedings of the Second European Conference on Earthquake Engineering and Seismology, pp. ID 1471, Aug. 2014.

国内会議発表 (査読なし・不明)

• 三上 萌, 福山 聡史, 渡辺 正裕. 原子層薄膜CaF₂/Siヘテロ構造を用いたp 型共鳴トンネルダイオードの室温微分負性抵抗特性, 第66回応用物理学会春季学術講演会, 応用物理学会, p. 11-192, Mar. 2019.  公式リンク  
  
• 市川研佑, 利根川啓希, 廣瀬皓大, 三上萌, 福山聡史, 熊谷佳郎, 渡辺正裕. 金属をエミッタとするシリコン／フッ化物多重障壁共鳴トンネルダイオードの理論解析, 第66回応用物理学会春季学術講演会, 応用物理学会, p. 11-191, Mar. 2019.  公式リンク  
  
• 廣瀬皓大, 福山聡史, 熊谷佳郎, 利根川啓希, 渡辺正裕. Si/CaF₂二重障壁共鳴トンネルダイオードの室温微分負性抵抗特性, 第79回応用物理学会学術講演会, p. 12-432, Sept. 2018.
• 熊谷佳郎, 大野綜一郎, 廣瀬皓大, 福山聡史, 利根川啓希, 渡辺正裕. ドライエッチングプロセスによるCaF₂/Si/CaF₂共鳴トンネル構造の室温微分負性抵抗特性, 第79回応用物理学会学術講演会, p. 12-434, Sept. 2018.
• 福山聡史, 渡辺正裕. 原子層薄膜CaF₂/Siヘテロ構造を用いた単一障壁トンネルダイオードの電流電圧特性評価, 第79回応用物理学会学術講演会, p. 12-433, Sept. 2018.
• 福山聡史, 渡辺正裕. 原子層薄膜CaF₂/Siヘテロ界面の価電子帯バンド不連続評価, 第65回応用物理学会春季学術講演会, p. 12-265, Mar. 2018.

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