論文

• KAZUO TSUTSUI, T Matsuda, M Watanabe, Cheng-Guo Jin, 佐々木雄一朗, Bunji Mizuno, E Ikenaga, Kuniyuki KAKUSHIMA, Ahmet Parhat, T Maruizumi, Hiroshi Nohira, takeo hattori, HIROSHI IWAI. Activated Boron and its Concentration Profiles in Heavily Doped Si Studied by Soft X-ray Photoelectron Spectroscopy and Hall Measurements, Journal of Applied Physics, Vol. 104, 093709, 2008.

国際会議発表 (査読有り)

• KAZUO TSUTSUI, Masaoki Tanaka, Norifumi Hoshino, Hiroshi Nohira, Kuniyuki KAKUSHIMA, Ahmet Parhat, 佐々木雄一朗, Bunji Mizuno, T. Muro, T. Kinoshita, takeo hattori, HIROSHI IWAI. Soft X-ray Photoelectron Spectroscopy Study of Activation and Deactivation of Impurities in Shallow Junctions, ICSICT(International Conference on Solid-State and Integrated Circuit Technology)2010, Nov. 2010.
• KAZUO TSUTSUI, Norifumi Hoshino, Yasumasa Nakagawa, Masaoki Tanaka, Hiroshi Nohira, Kuniyuki KAKUSHIMA, Ahmet Parhat, 佐々木雄一朗, Bunji Mizuno, takeo hattori, HIROSHI IWAI. Depth Profiling of Chemical Bonding States of Impurity Atoms and Their Correlation with Electrical Activity in Si Shallow Junctions, IEEE IWJT 2010 Extended Abstracts 2010 International Workshop on Junction Technology, May 2010.

国内会議発表 (査読なし・不明)

• 酒井一憲, 中川恭成, 横田知之, 金成国, 岡下勝己, 佐々木雄一朗, パールハットアヘメト, 角嶋邦之, 水野文二, 服部健雄, 筒井一生, 岩井洋. 3次元Fin構造中不純物プロファイリングのための反復犠牲酸化エッチング, 秋季第69回応用物理学会学術講演会, 秋季第69回応用物理学会学術講演会予稿集, 応用物理学会, No. 2, pp. 749, Sept. 2008.
• 酒井一憲, 渡邉将光, 中川恭成, 金 成国, 岡下 勝己, 佐々木雄一朗, パールハットアヘメト, 角嶋邦之, 水野 文二, 服部健雄, 筒井一生, 岩井洋. 極浅接合プロファイリングのための反復犠牲酸化エッチング技術, 春季第55回応用物理学会学術講演会, 春季第55回応用物理学会学術講演会予稿集, 応用物理学会, No. 2, pp. 900, Mar. 2008.

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