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大場隆之 2023年 研究業績一覧 (5件 / 45件)

論文

国際会議発表 (査読有り)

国内会議発表 (査読なし・不明)

特許など

  • 大場隆之, 中條 徳男. 積層メモリ. 特許. 公開. 国立大学法人東京工業大学. 2021/12/06. 特願2021-197979. 2023/06/16. 特開2023-083955. 2023.
  • 大場隆之, 作井 康司. 半導体装置. 特許. 公開. 国立大学法人東京工業大学. 2021/09/21. 特願2021-153314. 2023/04/03. 特開2023-045099. 2023.
  • 大場隆之, 菅谷 慎二 . 積層デバイスの製造方法、および、積層デバイス. 特許. 公開. 国立大学法人東京工業大学, 株式会社アドバンテスト. 2021/09/29. 特願2021-159670. 2023/04/10. 特開2023-049739. 2023.
  • 大場隆之, 菅谷 慎二. 半導体装置. 特許. 公開. 国立大学法人東京工業大学, 株式会社アドバンテスト. 2021/07/09. 特願2021-113963. 2023/01/20. 特開2023-010103. 2023.
  • 大場隆之, 作井 康司 . 半導体装置および半導体装置の製造方法. 特許. 登録. 国立大学法人東京工業大学, 本田技研工業株式会社. 2020/03/06. 特願2020-038816. 2021/09/16. 特開2021-141238. 特許第7411959号. 2023/12/28 2023.
  • 大場隆之, 作井 康司 . 半導体装置の製造方法. 特許. 登録. 国立大学法人東京工業大学, 本田技研工業株式会社. 2020/03/06. 特願2020-038817. 2021/09/16. 特開2021-141239. 特許第7357288号. 2023/09/28 2023.
  • 大場隆之, 作井 康司 . 半導体装置. 特許. 登録. 国立大学法人東京工業大学, 本田技研工業株式会社. 2020/01/16. 特願2020-005051. 2021/08/05. 特開2021-114347. 特許第7340178号. 2023/08/30 2023.
  • 大場隆之, 菅谷 慎二 . 3次元デバイスおよび3次元デバイスを製造する方法. 特許. 登録. 国立大学法人東京工業大学, 株式会社アドバンテスト. 2019/12/25. 特願2019-234428. 2021/07/15. 特開2021-103735. 特許第7403765号. 2023/12/15 2023.
  • 大場隆之, 作井 康司 . 半導体装置. 特許. 登録. 国立大学法人東京工業大学, 本田技研工業株式会社. 2019/10/04. 特願2019-183605. 2021/04/15. 特開2021-061078. 特許第7282329号. 2023/05/19 2023.
  • 大場隆之, 作井 康司 . 半導体装置. 特許. 登録. 国立大学法人東京工業大学, 本田技研工業株式会社. 2019/10/04. 特願2019-183712. 2021/04/15. 特開2021-061292. 特許第7272587号. 2023/05/01 2023.
  • 大場隆之, 作井 康司 . 半導体装置. 特許. 登録. 国立大学法人東京工業大学, 本田技研工業株式会社. 2019/09/13. 特願2019-167207. 2021/03/18. 特開2021-044045. 特許第7320227号. 2023/07/26 2023.
  • 大場隆之, 作井 康司 . 半導体装置. 特許. 登録. 国立大学法人東京工業大学, 本田技研工業株式会社. 2019/03/18. 特願2019-050060. 2020/09/24. 特開2020-155473. 特許第7255797号. 2023/04/03 2023.
  • 大場隆之, 作井 康司. 半導体装置. 特許. 登録. 国立大学法人東京工業大学, 本田技研工業株式会社. 2019/03/18. 特願2019-050061. 2020/09/24. 特開2020-155474. 特許第7222481号. 2023/02/07 2023.

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