論文

• Mina Sato, Mie Tohnishi, Akihiro Matsutani. Microfabrication of Si by KOH Etchant Using Etching Masks Amorphized by Ion Beam Extracted From Electron Cyclotron Plasma, Sensors and Materials, Vol. 36, No. 4, pp. 1319-1328, Apr. 2024.
• Mie Tohnishi, Mina Sato, Akihiro Matsutani, Takashi Ubukata, Sachiko Matsushita. Surface Treatment of Polyimide using Solid-source H2O Plasma for Fabrication of Ge Electrode, Sensors and Materials, Vol. 35, No. 3, pp. 1023-1033, Mar. 2023.
• Ryo Tsukui, Masaru Kino, Kodai Yamamoto, Mina Sato, Mie Tohnishi, Akihiro Matsutani, Mikio Kurita. Laboratory demonstration of the birefrigent point-diffraction interferometer wavefront sensor, Optics Continuum, Vol. 2, pp. 382-396, Jan. 2023.
• Mina Sato, Mie Tohnishi, Akihiro Matsutani. Microfabrication of Si by KOH Etchant Using Etching Mask Amorphized by Ar Ion Beam, Sensors and Materials, Vol. 34, No. 1, Jan. 2022.
• Mie Tohnishi, Akihiro Matsutani. Surface Treatment of Polydimethylsiloxane and Glass Using Solid-source H2O Plasma for Fabrication of Microfluidic Devices, Sensors and Materials, MYU.K.K, Vol. 33, No. 2, pp. 569-574, Feb. 2021.  公式リンク  
  

国際会議発表 (査読有り)

• Mina Sato, Mie Tohnishi, Miho Fujimoto, Akihiro Matsutani. Submicrometer-sized Patterning of Photoresist by Electron Beam Projection Lithography Using Tabletop Scanning Electron Microscope System and Si Stencil Mask, MNC2024 (37th International Microprocesses and Nanotechnology Conference), 14P-1-6, Nov. 2024.
• Mie Tohnishi, Sachiko Matsushita, Akihiro Matsutani. Fabrication of nonreflective black germanium in near-infrared region up to a wavelength of 2.5 µm by SF6+O2/C4F8-plasma-based deep reactive ion etching, 2023 International Symposium on Dry Process (DPS 2023), Proceedings of International Symposium on Dry Process, Nov. 2023.

国内会議発表 (査読なし・不明)

• 遠西 美重. 固体ソースH₂Oプラズマによるフォトレジストのエッチング分布の均一化, 第30回機器・分析技術研究会, Sept. 2024.
• 松谷晃宏, 遠西美重, 吉田 桜子. OsコーティングによるSU-8膜の梁構造の機械的強度の向上, 2024年第71回応用物理学会春季学術講演会, 23p-P05-36, Mar. 2024.
• 遠西美重, 松下祥子, 松谷晃宏. Deep-RIEで作製したブラックGeの微細構造側壁のスキャロップ深さと反射率との関係, 第71回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2024.
• 陳科廷, 遠西美重, 松谷晃宏, 松下祥子. 二枚櫛形電極を重ねたGe増感型熱利用電池構造のシミュレーションと作製, 2024年第71回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2024.
• 佐藤美那, 遠西美重, 松谷晃宏. イオンビーム照射によりアモルファス化したSi表面のXRR測定, 第71回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2024.
• 遠西美重, 松谷晃宏, 松下祥子. Deep-RIE により作製したブラックGe 微細構造側壁のEDX 分析, 2023年第84回応用物理学会秋季学術講演会, 20p-P07-15, Sept. 2023.
• 松谷晃宏, 遠西美重. デジタルカメラと回折格子によるSi のDeep-RIE プラズマの発光分光測定と EDX による高アスペクト比（HAR）エッチング側壁の分析の比較, 2023年第84回応用物理学会秋季学術講演会, 20p-P07-16, Sept. 2023.
• 遠西 美重, 松谷晃宏, 生方 俊, 松下祥子. 固体ソースH₂Oプラズマ処理したポリイミド樹脂の表面のXPS分析, 2023年第70回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2023.
• 佐藤 美那, 遠西美重, 松谷晃宏. Ar+ビーム照射により作製したKOHエッチング用SiマスクのXPS解析, 2023年第70回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2023.
• 松谷晃宏, 遠西美重, 藤本美穂, 松下祥子. ポジ型電子線レジストSML1000をマスクとして用いたSF6-RIEによるGeのドライエッチング, 2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会, 20a-P01-5, Sept. 2022.
• 佐藤美那, 遠西美重, 松谷晃宏. Ar＋ビーム照射によるSiアモルファスマスクを利用したKOHエッチングによる単一細胞分離プレートとマイクロ流路の作製, 第69回 応用物理学会 春季学術講演会, Mar. 2022.
• 遠西 美重, 佐藤美那, 松下祥子, 松谷晃宏. ポリイミドシート上へスパッタ成膜したCr/Ge電極の固体ソースH₂Oプラズマを用いた前処理による低抵抗化, 第69回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2022.
• 遠西 美重, 佐藤美那, 松下祥子, 松谷晃宏. 固体ソースH₂O プラズマを用いて表面処理したポリイミドテープ上のCr/Cu電極の折り曲げ耐久性, 第82回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2021.
• 佐藤美那, 遠西美重, 松谷晃宏. エッチングマスクとしてAr+イオンビームを照射した 微細マスクパターンを用いたKOH エッチングによるSi の微細加工, 第82回 応用物理学会 秋季学術講演会, Sept. 2021.
• 遠西 美重, 松谷 晃宏. 固体ソースH₂O プラズマ処理したポジ型フォトレジストの表面粗さの観察, 第68回応用物理学会春季学術講演会, 16a-P04-6, Mar. 2021.
• 遠西 美重, 松谷 晃宏. 固体ソースH₂O プラズマ処理によるガラスとPDMSの接合表面処理, 2020年度機器・分析技術研究会, P-31, Sept. 2020.
• 遠西 美重. PDMSとガラスの酸素プラズマ処理による接合, 技術研究会2020, P-3-08, Mar. 2020.
• 遠西 美重, 松谷 晃宏. 固体ソースH₂O プラズマ処理によるPDMS とガラスの接合, 第67回応用物理学会春季学術講演会, 13a-PA1-14, Mar. 2020.
• 松谷晃宏, 佐藤美那, 遠西美重, 藤本 美穂, 平野 明子, 西沢望, 進士忠彦, 初澤毅. 東京工業大学におけるクリーンルーム統合共用化による 組織的研究支援の推進, 研究・イノベーション学会第34回年次学術大会, 研究・イノベーション学会第34回年次学術大会講演要旨集, pp. 245-248, Oct. 2019.

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