国内会議発表 (査読なし・不明)

• 佐野貴洋, 大見俊一郎. ECRスパッタ法により形成したHfN/HfSiON/Si(100)ゲートスタック構造の評価, 春季第５７回応用物理学関係連合講演会, 春季第５７回応用物理学関係連合講演会予稿集, 応用物理学会, p. 13-104, Mar. 2010.
• Han Hui-Seong, Takahiro Sano, Young uk Song, Shun-ichiro Ohmi. Electrical Properties of Hf/HfSiON/p-Si(100) Structure MIS capacitor by Using ECR-Sputtering, 春季第５７回応用物理学関係連合講演会, 春季第５７回応用物理学関係連合講演会予稿集, 応用物理学会, p. 13-105, Mar. 2010.
• 佐野貴洋, 大見俊一郎. ECRスパッタ法による３次元構造上へのHfN/HfONゲートスタック構造の形成, 秋季第７０回応用物理学会学術講演会, 秋季第７０回応用物理学会学術講演会予稿集, 応用物理学会, pp. 737, Sept. 2009.
• 佐野貴洋, 大見俊一郎. 3次元構造上に形成したHfON薄膜の側壁部膜質の評価, 春季第56回応用物理学関係連合講演会, 春季第56回応用物理学関係連合講演会予稿集, 応用物理学会, pp. 850, Mar. 2009.
• 須田雄一郎, 野武幸輝, 高峻, 佐野貴洋, 大見俊一郎. RFスパッタ法による3次元構造上へのSiO2薄膜の形成, 第55回応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 第55回応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 応用物理学会, No. 2, p. 881, Mar. 2008.
• 佐野貴洋, 仲野雄介, 大見俊一郎. ECRスパッタ法による3次元ゲート構造上へのHfO2薄膜の形成, 第55回応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 第55回応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 応用物理学会, No. 2, p. 882, Mar. 2008.

学位論文

• ECRスパッタ法によるHfN/HfSiON構造のin-situ形成プロセスと3次元ゲートデバイス応用に関する研究,  本文,  博士(工学),  東京工業大学,  2012/03/26,   

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