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佐野貴洋 研究業績一覧 (7件)
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国内会議発表 (査読なし・不明)
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佐野貴洋,
大見俊一郎.
ECRスパッタ法により形成したHfN/HfSiON/Si(100)ゲートスタック構造の評価,
春季第57回応用物理学関係連合講演会,
春季第57回応用物理学関係連合講演会予稿集,
応用物理学会,
p. 13-104,
Mar. 2010.
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Han Hui-Seong,
Takahiro Sano,
Young uk Song,
Shun-ichiro Ohmi.
Electrical Properties of Hf/HfSiON/p-Si(100) Structure MIS capacitor by Using ECR-Sputtering,
春季第57回応用物理学関係連合講演会,
春季第57回応用物理学関係連合講演会予稿集,
応用物理学会,
p. 13-105,
Mar. 2010.
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佐野貴洋,
大見俊一郎.
ECRスパッタ法による3次元構造上へのHfN/HfONゲートスタック構造の形成,
秋季第70回応用物理学会学術講演会,
秋季第70回応用物理学会学術講演会予稿集,
応用物理学会,
pp. 737,
Sept. 2009.
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佐野貴洋,
大見俊一郎.
3次元構造上に形成したHfON薄膜の側壁部膜質の評価,
春季第56回応用物理学関係連合講演会,
春季第56回応用物理学関係連合講演会予稿集,
応用物理学会,
pp. 850,
Mar. 2009.
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須田雄一郎,
野武幸輝,
高峻,
佐野貴洋,
大見俊一郎.
RFスパッタ法による3次元構造上へのSiO2薄膜の形成,
第55回応用物理学関係連合講演会講演予稿集,
第55回応用物理学関係連合講演会講演予稿集,
応用物理学会,
No. 2,
p. 881,
Mar. 2008.
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佐野貴洋,
仲野雄介,
大見俊一郎.
ECRスパッタ法による3次元ゲート構造上へのHfO2薄膜の形成,
第55回応用物理学関係連合講演会講演予稿集,
第55回応用物理学関係連合講演会講演予稿集,
応用物理学会,
No. 2,
p. 882,
Mar. 2008.
学位論文
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