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田中敦 研究業績一覧 (8件)
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論文
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A.Tanaka,
Y.Tsuchiya,
kouichi usami,
S Saito,
T.Arai,
H.Mizuta,
S.Oda.
Synthesis of Assembled Nanocrystalline Si Dots Film by the Langmuir-Blodgett Technique,
Japanese Journal of Applied Physics,
Vol. 47 (5),
pp. 3731-3734,
May 2008.
国際会議発表 (査読なし・不明)
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Lin,
A. Tanaka,
N. Ishizaki,
A. Nishiyama,
N. Wakiya,
J. S. Cross,
T. Shiota,
O. Sakurai,
K. Shinozaki.
Optimization of Deposition Conditions of a-Al2O3 Thin Films by Low Pressure MOCVD Using Al(CH3)3,
The 8th International Conference on the Science and Technology for Advanced Ceramics (STAC-8),
Abstract book of The 8th International Conference on the Science and Technology for Advanced Ceramics (STAC-8),
26pKP27,
June 2014.
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Hea-Jeong Cheong,
Daihei Hippo,
Atsushi Tanaka,
Kouichi Usami,
Yoshishige Tsuchiya,
Hiroshi Mizuta,
Shunri Od.
Visible Electroluminescence from Size-Controlled Silicon Quantum Dots,
CLEO/QELS 2006,
May 2006.
国内会議発表 (査読なし・不明)
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田中敦,
宇津木貴太,
西山昭雄,
脇谷尚樹,
塩田忠,
櫻井修,
篠崎和夫.
Al(CH3)3を原料とするMOCVD法によるα−Al2O3薄膜の製膜条件の最適化,
日本セラミックス協会2014年年会,
日本セラミックス協会2014年年会講演予稿集,
2G28,
Mar. 2015.
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林俊甫,
田中 敦,
西山 昭雄,
塩田 忠,
櫻井修,
篠崎 和夫.
Fabrication of a-Al2O3 thin films at lower temperature by low pressure MOCVD,
第4回日本セラミックス協会関東支部若手研究発表交流会,
第4回日本セラミックス協会関東支部若手研究発表交流会講演要旨集,
43,
Oct. 2014.
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宇津木貴太,
田中敦,
西山昭雄,
塩田忠,
櫻井修,
篠崎和夫,
脇谷尚樹.
PLD 法を用いたCr2O3シード層の製膜と MOCVD 法によるAl2O3薄膜の結晶化への影響,
日本セラミックス協会第30回関東支部研究発表会,
日本セラミックス協会第30回関東支部研究発表会講演予稿集,
B13,
Sept. 2014.
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田中 敦,
宇津木貴太,
石崎超矢,
西山昭雄,
塩田 忠,
櫻井 修,
篠崎和夫,
脇谷尚樹.
Al(CH3)3を原料とするMOCVD法によるAl2O3薄膜の製膜過程,
日本セラミックス協会第29回関東支部研究発表会,
日本セラミックス協会第29回関東支部研究発表会予稿集,
2A04,
Sept. 2013.
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石崎超矢,
田中 敦,
西山昭雄,
塩田 忠,
櫻井 修,
篠崎和夫,
脇谷尚樹.
MOCVD法によるSi基板上へのアルミナ薄膜の形成,
日本セラミックス協会第32回エレクトロセラミックス研究討論会,
日本セラミックス協会第32回エレクトロセラミックス研究討論会講演予稿集,
2P10,
p. 50,
Oct. 2012.
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